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Optical Stepper의 이중노광에 의한 미세한 포토레지스트 패턴의 형성 = Very fine photoresist pattern formation using double exposure of optical wafer stepper
표제/저자사항 Optical Stepper의 이중노광에 의한 미세한 포토레지스트 패턴의 형성 = Very fine photoresist pattern formation using double exposure of optical wafer stepper / 楊典旭, 金鳳烈, 朴喆淳, 朴亨茂
형태사항 p. 69-75: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌. A. 大韓電子工學會. 31卷 7號(1994년 7월), p. 69-75 31:7<69 상세보기 ISSN 1016-135X
저자: 양전욱, 한국전자통신연구소
저자: 김봉열, 연세대학교 전자공학과
저자: 박철순, 한국전자통신연구소
저자: 박형무, 한국전자통신연구소
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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