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다공질 실리콘 식각법을 이용한 실리콘 미세가공기술 = Silicon micromachining technique using porous silicon etching method
표제/저자사항 다공질 실리콘 식각법을 이용한 실리콘 미세가공기술 = Silicon micromachining technique using porous silicon etching method / 曺贊燮, 沈俊煥, 李鍾玄
형태사항 p. 116-123: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌. A. 大韓電子工學會. 31卷 11號(1994년 11월), p. 116-123 31:11<116 상세보기 ISSN 1016-135X
저자: 조찬섭, 경북대학교 전자공학과
저자: 심준환, 경북대학교 전자공학과
저자: 이종현, 경북대학교 전자공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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