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얇은 열산화-질화막의 특성평가 = Evaluation of Characteristics of Oxidized Thin LPCVD-Si₃N₄ Film
표제/저자사항 얇은 열산화-질화막의 특성평가 = Evaluation of Characteristics of Oxidized Thin LPCVD-Si₃N₄ Film / 丘庚完, 趙成佶, 洪鳳植
형태사항 p. 29-35: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌.A. 大韓電子工學會. 29卷 9號(1992년 9월), p. 29-35 29:9<29 상세보기 ISSN 1016-135X
저자: 구경완, 정회원, 충청전문대학 전자과
저자: 조성길, 정회원, 충청대학교 금속공학과
저자: 홍봉식, 정회원, 충남대학교 전자공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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