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<100>방향 실리콘 단결정에서의 저 에너지 붕소 이온 주입 공정에 대한 3차원 몬테 카를로 시뮬레이션 및 마스크 효과 = Three-dimensional monte carlo simulation and mask effect of low-energy boron ion implantation into <100>single-crystal silicon
표제/저자사항 <100>방향 실리콘 단결정에서의 저 에너지 붕소 이온 주입 공정에 대한 3차원 몬테 카를로 시뮬레이션 및 마스크 효과 = Three-dimensional monte carlo simulation and mask effect of low-energy boron ion implantation into <100>single-crystal silicon / 孫明植, 李俊賀, 宋榮珍, 黃好正
형태사항 p. 94-105: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌. A. 大韓電子工學會. 32卷 8號(1995년 8월), p. 94-105 32:8<94 상세보기 ISSN 1016-135X
저자: 손명식, 정회원, 중앙대학교 전자공학과
저자: 이준하, 정회원, 중앙대학교 전자공학과
저자: 송영진, 정회원, 건양대학교 전자공학과
저자: 황호정, 정회원, 중앙대학교 전자공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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