기사
열처리된 SiO₂ / TiW 구조의 계면 특성 = The interfacial properties of th eanneled SiO / TiW structure
표제/저자사항 열처리된 SiO₂ / TiW 구조의 계면 특성 = The interfacial properties of th eanneled SiO / TiW structure / 李在成, 朴瀅浩, 李正熙, 李龍鉉
형태사항 p. 117-125: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌. A. 大韓電子工學會. 33卷 3號(1996년 3월), p. 117-125 33:3<117 상세보기 ISSN 1016-135X
저자: 이재성, 정회원, 경북대학교 전자전기공학부
저자: 박형호, 정회원, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 이정희, 정회원, 경북대학교 전자전기공학부
저자: 이용현, 정회원, 경북대학교 전자전기공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로