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RF MEMS 응용을 위한 3차원 다공질 실리콘 산화막 구조체 제조 = 3-D structure fabrication of oxidized porous silicon for RF MEMS application
표제/저자사항 RF MEMS 응용을 위한 3차원 다공질 실리콘 산화막 구조체 제조 = 3-D structure fabrication of oxidized porous silicon for RF MEMS application / 김영민, 노기영, 권재우, 이종현
형태사항 p. 192-199: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子技術硏究誌. 慶北大學校 出版部. 22卷 1號(2001년), p. 192-199 22:1<192 상세보기 ISSN 1225-214X
저자: 김영민, 경북대학교 대학원 전자공학과 박사과정
저자: 노기영, 경북대학교 대학원 전자공학과 석사과정
저자: 권재우, 경북대학교 대학원 전자공학과 석사과정
저자: 이종현, 경북대학교 대학원 전자전기공학부 교수
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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