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Mo / Si 다층박막에서의 고상확산에 의한 실리사이드 생성에 관한 연구 / Silicide formation by solid state diffusion in Mo
표제/저자사항 Mo / Si 다층박막에서의 고상확산에 의한 실리사이드 생성에 관한 연구 / Silicide formation by solid state diffusion in Mo / Si multilayer thin films, 지응준, 곽준섭, 심재엽, 백홍구
형태사항 p. 507-514: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 2권 4호(1993년 11월), p. 507-514 2:4<507 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 지응준, 연세대학교 공과대학 금속공학과
저자: 곽준섭, 연세대학교 공과대학 금속공학과
저자: 심재엽, 연세대학교 공과대학 금속공학과
저자: 백홍구, 연세대학교 공과대학 금속공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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