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GaAs(100) 기판에 사전 열분해하지 않은 Monoethylarsine을 사용하는 Chemical Beam Epitaxy 방법에 의한 InGaAs 박막의 Facet 성장에 관한연구 = Facet growth of ingaas on gaas(100) by chemical beam epitaxy using unprecracked monoethylarsine
표제/저자사항 GaAs(100) 기판에 사전 열분해하지 않은 Monoethylarsine을 사용하는 Chemical Beam Epitaxy 방법에 의한 InGaAs 박막의 Facet 성장에 관한연구 = Facet growth of ingaas on gaas(100) by chemical beam epitaxy using unprecracked monoethylarsine / 김성복, 박성주, 노정래, 이일항
형태사항 p. 199-205: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 5권 3호(1996년 9월), p. 199-205 5:3<199 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 김성복, 한국전자통신연구소 기초기술연구부
저자: 박성주, 광주과학기술원 신소재공학과
저자: 노정래, 한국전자통신연구소 기초기술연구부
저자: 이일항, 한국전자통신연구소 기초기술연구부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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