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공정 변수에 따른 PECVD 질화규소 박막 특성에 관한 연구 = (The)effect of process parameters on the properties of PECVD silicon nitride film
표제/저자사항
공정 변수에 따른 PECVD 질화규소 박막 특성에 관한 연구 = (The)effect of process parameters on the properties of PECVD silicon nitride film / 남철우, 우성일, 김용태
형태사항
p. 336-344: 삽도; 29 cm
주기사항
수록자료: 화학공학. 한국화학공학회. 29권 3호(1991년 6월), p. 336-344 29:3<336 상세보기 ISSN 0304-128X
저자: 남철우, 한국과학기술원 화학공학과
저자: 우성일, 한국과학기술원 화학공학과
저자: 김용태, 한국과학기술연구원 반도체재료연구실
저자: 남철우, 한국과학기술원 화학공학과
저자: 우성일, 한국과학기술원 화학공학과
저자: 김용태, 한국과학기술연구원 반도체재료연구실
출처
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001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
