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초고집적회로를 위한 구리박막의 화학적 형성기술 = Chemical vapor deposition of copper thin films for ultra large scale integration
표제/저자사항 초고집적회로를 위한 구리박막의 화학적 형성기술 = Chemical vapor deposition of copper thin films for ultra large scale integration / 박동일, 조남인
형태사항 p. 20-27: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 6권 1호(1997년 2월), p. 20-27 6:1<20 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 박동일
저자: 조남일
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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