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평면형 유도결합 플라즈마의 특성 및 선택적 산화막 식각 응용에 관한 연구 = (A)study on the characteristics of planar type inductively coupled plasma and its applications on the selective oxide etching
표제/저자사항 평면형 유도결합 플라즈마의 특성 및 선택적 산화막 식각 응용에 관한 연구 = (A)study on the characteristics of planar type inductively coupled plasma and its applications on the selective oxide etching / 양일동, 이호준, 황기웅
형태사항 p. 91-96: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 6권 1호(1997년 2월), p. 91-96 6:1<91 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 양일동, 서울대학교 공과대학 전기공학부
저자: 이호준, 서울대학교 공과대학 전기공학부
저자: 황기웅, 서울대학교 공과대학 전기공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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