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실리카 도파로(Silica Waveguide) 제작을 위한 Inductively Coupled Plasma에 의한 산화막 식각특성 연구 = (The) study of oxide etching characteristics using inductively coupled plasma for silica waveguide fabircation
표제/저자사항 실리카 도파로(Silica Waveguide) 제작을 위한 Inductively Coupled Plasma에 의한 산화막 식각특성 연구 = (The) study of oxide etching characteristics using inductively coupled plasma for silica waveguide fabircation / 박상호, 권광호, 정명영, 최태구
형태사항 p. 287-292: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 6권 3호(1997년 8월), p. 287-292 6:3<287 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 박상호, 한국전자통신연구원 통신부품연구실
저자: 권광호, 한서대학교 전자공학과
저자: 정명영, 한국전자통신연구원 통신부품연구실
저자: 최태구, 한국전자통신연구원 통신부품연구실
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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