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이온화클러스터빔 증착법에 의한 구리 박막의 반도체 접촉구 메움 향상에 관한 연구 = Improvement of semiconductor contact hole filling of Copper by ionized cluster beam deposition technique
표제/저자사항 이온화클러스터빔 증착법에 의한 구리 박막의 반도체 접촉구 메움 향상에 관한 연구 = Improvement of semiconductor contact hole filling of Copper by ionized cluster beam deposition technique / 백민, 손기황, 김도진
형태사항 p. 118-126: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 7권 2호(1998년 5월), p. 118-126 7:2<118 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 백민, 충남대학교 재료공학과
저자: 손기황, 충남대학교 재료공학과
저자: 김도진, 충남대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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