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N₂ / CH₄가스비에 따른 Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride 박막의 특성 = Hydrogeneted amorphous carbon nitride films on Si(100) deposited by DC saddle field plasma enhanced chemical vapor deposition
표제/저자사항 N₂ / CH₄가스비에 따른 Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride 박막의 특성 = Hydrogeneted amorphous carbon nitride films on Si(100) deposited by DC saddle field plasma enhanced chemical vapor deposition / 장홍규, 김근식, 황보상우, 이연승, 황정남, 유영조, 김효근
형태사항 p. 242-247: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 7권 3호(1998년 8월), p. 242-247 7:3<242 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 장홍규, 연세대학교 초미세표면과학연구센타
저자: 김근식, 연세대학교 초미세표면과학연구센타
저자: 황보상우, 연세대학교 초미세표면과학연구센타
저자: 이연승, 연세대학교 초미세표면과학연구센타
저자: 황정남, 연세대학교 초미세표면과학연구센타
저자: 유영조, 연세대학교 초미세표면과학연구센타
저자: 김효근, 광주과학기술원 신소재공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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