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RF pulsing이 Ionized magnetron sputtering의 이온화율 향상에 미치는 효과 = Effects of RF Pulsing on the ionization enhancement in ionized magnetron sputtering
표제/저자사항 RF pulsing이 Ionized magnetron sputtering의 이온화율 향상에 미치는 효과 = Effects of RF Pulsing on the ionization enhancement in ionized magnetron sputtering / 주정훈
형태사항 p. 255-260: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 7권 3호(1998년 8월), p. 255-260 7:3<255 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 주정훈, 군산대학교 공과대학 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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