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플라즈마 후처리 시간에 따른 저유전율 SiOF 박막의 특성 = Characteristics of low dielectric constant SiOF thin films with post plasma treatment time
표제/저자사항 플라즈마 후처리 시간에 따른 저유전율 SiOF 박막의 특성 = Characteristics of low dielectric constant SiOF thin films with post plasma treatment time / 이석형, 박종완
형태사항 p. 267-272: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 7권 3호(1998년 8월), p. 267-272 7:3<267 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 이석형, 한양대학교 금속공학과
저자: 박종완, 한양대학교 금속공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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