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헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구 = (A)study on the highly selective SiO₂etching using a helicon plasma
표제/저자사항 헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구 = (A)study on the highly selective SiO₂etching using a helicon plasma / 김정훈, 김진성, 김윤택, 황기웅, 주정훈
형태사항 p. 397-402: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 7권 4호(1998년 11월), p. 397-402 7:4<397 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 김정훈, 서울대학교 공과대학 전기공학부 플라즈마 실험실
저자: 김진성, 서울대학교 공과대학 전기공학부 플라즈마 실험실
저자: 김윤택, 서울대학교 공과대학 전기공학부 플라즈마 실험실
저자: 황기웅, 서울대학교 공과대학 전기공학부 플라즈마 실험실
저자: 주정훈, 군산대학교 공과대학 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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