기사
4MHz-I-PVD장치에서 정합회로를 이용한 플라즈마 제어 = Plasma control by tuning network modification in 4MHz ionized-physical vapor deposition
표제/저자사항 4MHz-I-PVD장치에서 정합회로를 이용한 플라즈마 제어 = Plasma control by tuning network modification in 4MHz ionized-physical vapor deposition / 주정훈
형태사항 p. 75-82: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 8권 1호(1999년 2월), p. 75-82 8:1<75 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 주정훈, 군산대학교 공과대학 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로