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동심원형 대칭 전기장 집속방식을 응용한 자가 이온 보조 소스 제작 및 Cu 박막 증착 = Design of Self-ion assisted beam source (SIAB) based on electron focusing with concentric symmetrical electric field and Cu thin film growth by SIAB
표제/저자사항 동심원형 대칭 전기장 집속방식을 응용한 자가 이온 보조 소스 제작 및 Cu 박막 증착 = Design of Self-ion assisted beam source (SIAB) based on electron focusing with concentric symmetrical electric field and Cu thin film growth by SIAB / 송재훈, 김기환, 이충만, 최성창, 송종한, 정형진, 최원국
형태사항 p. 121-126: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 8권 2호(1999년 5월), p. 121-126 8:2<121 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 송재훈, 한국과학기술연구원, 박막기술연구센터
저자: 김기환, 한국과학기술연구원, 박막기술연구센터
저자: 이충만, 한국과학기술연구원, 박막기술연구센터
저자: 최성창, 한국과학기술연구원, 박막기술연구센터
저자: 송종한, 한국과학기술연구원, 특성분석센터
저자: 정형진, 한국과학기술연구원, 박막기술연구센터
저자: 최원국, 한국과학기술연구원, 박막기술연구센터
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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