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Chemical Mechanical Polishing (CMP) 공정후의 금속오염의 제거를 위한 건식세정 = Dry cleaning for metallic contaminants removal after the chemical mechanical polishing (CMP) process
표제/저자사항
Chemical Mechanical Polishing (CMP) 공정후의 금속오염의 제거를 위한 건식세정 = Dry cleaning for metallic contaminants removal after the chemical mechanical polishing (CMP) process / 전부용, 이종무
형태사항
p. 102-109: 삽도; 26 cm
주기사항
수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 9권 2호(2000년 5월), p. 102-109 9:2<102 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 전부용, 인하대학교 재료공학부
저자: 이종무, 인하대학교 재료공학부
저자: 전부용, 인하대학교 재료공학부
저자: 이종무, 인하대학교 재료공학부
출처
국립중앙도서관 바로가기
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001KMO201509136
00520150303111639
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
