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LPCVD로 증착한 텅스텐 박막의 증착 조건 제어에 의한 접착성 및 저항 특성 향상 = Improvement of the adhesion and resistivity of low-pressure chemical vapor deposited tungsten films by controlling deposition parameters
표제/저자사항 LPCVD로 증착한 텅스텐 박막의 증착 조건 제어에 의한 접착성 및 저항 특성 향상 = Improvement of the adhesion and resistivity of low-pressure chemical vapor deposited tungsten films by controlling deposition parameters / 노관종, 윤선필, 윤영수, 노용한
형태사항 p. 321-327: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 9권 4호(2000년 12월), p. 321-327 9:4<321 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 노관종, 성균관대학교 전기전자및컴퓨터공학부
저자: 윤선필, 성균관대학교 전기전자및컴퓨터공학부
저자: 윤영수, 성균관대학교 전기전자및컴퓨터공학부
저자: 노용한, 성균관대학교 전기전자및컴퓨터공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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