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ALD법으로 증착한 TiN막의 특성 = Physical properties of TiN films grown by ALD
표제/저자사항 ALD법으로 증착한 TiN막의 특성 = Physical properties of TiN films grown by ALD / 김재범, 홍현석, 오기영, 이종무
형태사항 p. 159-165: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 11권 3호(2002년 9월), p. 159-165 11:3<159 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 김재범, 인하대학교 공과대학 재료공학부
저자: 홍현석, 인하대학교 공과대학 재료공학부
저자: 오기영, 주성엔지니어링
저자: 이종무, 인하대학교 공과대학 재료공학부 E-MAIL: E-mail: cmlee@inha.ac.kr
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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