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실리콘에 도핑된 붕소의 정량분석에 대한 공동분석연구 = RRT study for the quantitative analysis of boron in silicon
표제/저자사항 실리콘에 도핑된 붕소의 정량분석에 대한 공동분석연구 = RRT study for the quantitative analysis of boron in silicon / 김경중, 김현경, 문대원, 홍태은, 정칠성, 김이경, 김재남, 임철호, 김정호
형태사항 p. 218-224: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 11권 4호(2002년 12월), p. 218-224 11:4<218 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 김경중, 한국표준과학연구원 나노표면그룹 E-MAIL: E-mail: kjkim@kriss.re.kr
저자: 김현경, 한국표준과학연구원 나노표면그룹
저자: 문대원, 한국표준과학연구원 나노표면그룹
저자: 홍태은, 하이닉스반도체 분석개발팀
저자: 정칠성, 하이닉스반도체 분석개발팀
저자: 김이경, 케이맥 분석지원부
저자: 김재남, 포항산업과학연구원 재료물성분석팀
저자: 임철호, 동부전자주식회사 품질관리팀
저자: 김정호, LG전자기술원 물성연구실
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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