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RF magnetron sputtering 법을 이용한 압전성 ZnO 박막의 제조 및 그 표면분석 = Preparation of piezoelectric ZnO thin films by RF magnetron sputtering method and their surface analysis
표제/저자사항 RF magnetron sputtering 법을 이용한 압전성 ZnO 박막의 제조 및 그 표면분석 = Preparation of piezoelectric ZnO thin films by RF magnetron sputtering method and their surface analysis / 임상우, 설용건, 최지원, 이전국, 정형진
형태사항 p. 235-242: 삽도; 29 cm
주기사항 수록자료: 화학공학. 한국화학공학회. 33권 2호(1995년 4월), p. 235-242 33:2<235 상세보기 ISSN 0304-128X
저자: 임상우, 연세대학교 화학공학과
저자: 설용건, 연세대학교 화학공학과
저자: 최지원, 한국과학기술연구원 세라믹스부
저자: 이전국, 한국과학기술연구원 세라믹스부
저자: 정형진, 한국과학기술연구원 세라믹스부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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