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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성 = Characteristics of silicon oxide films prepared by chemical vapor deposition using ECR plasma source
표제/저자사항
ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성 = Characteristics of silicon oxide films prepared by chemical vapor deposition using ECR plasma source / 전법주, 오인환, 임태훈, 정일현
형태사항
p. 374-379: 삽도; 29 cm
주기사항
수록자료: 화학공학. 한국화학공학회. 35권 3호(1997년 6월), p. 374-379 35:3<374 상세보기 ISSN 0304-128X
저자: 전법주, 단국대학교 화학공학과
저자: 오인환, 한국과학기술연구원 화공연구부
저자: 임태훈, 한국과학기술연구원 화공연구부
저자: 정일현, 단국대학교 화학공학과
저자: 전법주, 단국대학교 화학공학과
저자: 오인환, 한국과학기술연구원 화공연구부
저자: 임태훈, 한국과학기술연구원 화공연구부
저자: 정일현, 단국대학교 화학공학과
출처
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MARC 보기
001KMO201509136
00520150303111639
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008150107s2001 gak 100 kor
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
