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ECR플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 제조 = Preparation of silicon dioxide film by ECR plasma
표제/저자사항 ECR플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 제조 = Preparation of silicon dioxide film by ECR plasma / 전법주, 오인환, 임태훈, 정일현
형태사항 p. 900-907: 삽도; 29 cm
주기사항 수록자료: 화학공학. 한국화학공학회. 35권 6호(1997년 12월), p. 900-907 35:6<900 상세보기 ISSN 0304-128X
저자: 전법주, 단국대학교 화학공학과
저자: 오인환, 한국과학기술연구원 화공연구부
저자: 임태훈, 한국과학기술연구원 화공연구부
저자: 정일현, 단국대학교 화학공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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