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저온 플라즈마를 이용한 질소산화물 제거 = Removal of nitric oxide using non-thermal plasma technology
표제/저자사항 저온 플라즈마를 이용한 질소산화물 제거 = Removal of nitric oxide using non-thermal plasma technology / 함성원, 박헌휘, 목영선
형태사항 p. 759-766: 삽도; 29 cm
주기사항 수록자료: 화학공학. 한국화학공학회. 37권 5호(1999년 10월), p. 759-766 37:5<759 상세보기 ISSN 0304-128X
저자: 함성원, 경일대학교 화학공학과 E-MAIL: swham@bear.kyungil.ac.kr
저자: 박헌휘, 호서대학교 화학공학과
저자: 목영선, 포항산업과학연구원 환경에너지연구부문
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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