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Cu 배선에 Al층간 물질 첨가에 의한 EM특성 개선 = Improvement of electromigration characteristics in using Ai interlayer
표제/저자사항 Cu 배선에 Al층간 물질 첨가에 의한 EM특성 개선 = Improvement of electromigration characteristics in using Ai interlayer / 이정환, 박병남, 최시영
형태사항 p. 403-410: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 10권 4호(2001년 12월), p. 403-410 10:4<403 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 이정환, 경북대학교 전자 ·전기·컴퓨터 공학부
저자: 박병남, 경북대학교 전자 ·전기·컴퓨터 공학부
저자: 최시영, 경북대학교 전자 ·전기·컴퓨터 공학부 E-MAIL: sychoi@ee.knu.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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