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Reactive sputtering 방법으로 증착된 W nitride 박막의 특성 = Characteristics of tungsten nitride films deposited by reactive sputtering method
표제/저자사항 Reactive sputtering 방법으로 증착된 W nitride 박막의 특성 = Characteristics of tungsten nitride films deposited by reactive sputtering method / 이연승, 이원준, 나사균, 이윤직, 임관용, 황정남,
형태사항 p. 22-27: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 韓國眞空學會誌. 韓國眞空學會. 11권 1호(2002년 4월), p. 22-27 1:1<22 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 이연승, 한밭대학교 정보통신컴퓨터공학부 E-MAIL: yslee@hanbat.ac.kr
저자: 이원준, 세종대학교 신소재공학부
저자: 나사균, 한밭대학교 재료공학과
저자: 이윤직, 하이닉스반도체(주) 메모리연구소
저자: 임관용, 하이닉스반도체(주) 메모리연구소
저자: 황정남, 연세대학교 초미세표면과학연구센터
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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