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이방성 식각기술을 이용한 실리콘 에칭방법에 관한 연구 = (A)study on silicon etching method using anisotropic etching technology
표제/저자사항 이방성 식각기술을 이용한 실리콘 에칭방법에 관한 연구 = (A)study on silicon etching method using anisotropic etching technology / 김동수, 정원채
형태사항 p. 89-100: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 산업기술종합연구소 논문집-경기대학교 산업기술종합연구소. 경기대학교 산업기술종합연구소. 21집(2001년), p. 89-100 21<89 상세보기
저자: 김동수, 전자공학과 대학원 재학중
저자: 정원채, 전자.기계공학부 전자공학 전공 부교수
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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