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MEMS 공정을 위한 여러 종류의 산화막의 잔류응력 제거 공정 = Reduction of the residual stress of various oxide films for MEMS structure fabrication
표제/저자사항
MEMS 공정을 위한 여러 종류의 산화막의 잔류응력 제거 공정 = Reduction of the residual stress of various oxide films for MEMS structure fabrication / 이상우, 김성운, 이상우, 김종팔, 박상준, 이상철, 조동일
형태사항
p. 265-273; 26 cm
주기사항
수록자료: 센서학회지. 한국센서학회. 8권 3호(1999년 5월), p. 265-273 8:3<265 상세보기 ISSN 1225-5475
저자: 이상우, 서울대학교 전기공학부
저자: 김성운, 서울대학교 전기공학부
저자: 이상우, 서울대학교 전기공학부
저자: 김종팔, 서울대학교 전기공학부
저자: 박상준, 서울대학교 전기공학부
저자: 이상철, 서울대학교 전기공학부
저자: 조동일, 서울대학교 전기공학부
저자: 이상우, 서울대학교 전기공학부
저자: 김성운, 서울대학교 전기공학부
저자: 이상우, 서울대학교 전기공학부
저자: 김종팔, 서울대학교 전기공학부
저자: 박상준, 서울대학교 전기공학부
저자: 이상철, 서울대학교 전기공학부
저자: 조동일, 서울대학교 전기공학부
출처
국립중앙도서관 바로가기
MARC 보기
001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
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9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
