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S$$F_6$$< / TEX>와 S$$F_6$$< / TEX>-N₂가스를 이용한 텅스텐 박막의 플라즈마 식각에 관한 연구 = (A)study on plasma etching of tungsten thin films using S$$F_6$$< / TEX> and S$$F_6$$< / TEX>-N₂gases
표제/저자사항 S$$F_6$$< / TEX>와 S$$F_6$$< / TEX>-N₂가스를 이용한 텅스텐 박막의 플라즈마 식각에 관한 연구 = (A)study on plasma etching of tungsten thin films using S$$F_6$$< / TEX> and S$$F_6$$< / TEX>-N₂gases / 고용득, 정광진, 최성호, 구경완, 조동율, 천희곤
형태사항 p. 291-297; 26 cm
주기사항 수록자료: 센서학회지. 한국센서학회. 8권 3호(1999년 5월), p. 291-297 8:3<291 상세보기 ISSN 1225-5475
저자: 고용득, 울산대학교 재료금속공학부
저자: 정광진, 울산대학교 재료금속공학부
저자: 최성호, 울산대학교 재료금속공학부
저자: 구경완, 영동대학교 전자공학부
저자: 조동율, 울산대학교 재료금속공학부
저자: 천희곤, 울산대학교 재료금속공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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