기사
PSG 희생층 식각시 AI층을 보호하기 위한 새로운 HF / NH₄F / glycerine 혼합 식각액 = (A)new HF / NH₄F / glycerine aqueous solution for protection of Al layers during sacrificial etching of PSG films
표제/저자사항 PSG 희생층 식각시 AI층을 보호하기 위한 새로운 HF / NH₄F / glycerine 혼합 식각액 = (A)new HF / NH₄F / glycerine aqueous solution for protection of Al layers during sacrificial etching of PSG films / 김성운, 백승준, 김임정, 이승기, 조동일
형태사항 p. 414-420; 26 cm
주기사항 수록자료: 센서학회지. 한국센서학회. 8권 5호(1999년 9월), p. 414-420 8:5<414 상세보기 ISSN 1225-5475
저자: 김성운, 서울대학교 전기공학부
저자: 백승준, 서울대학교 전기공학부
저자: 김임정, 서울대학교 전기공학부
저자: 이승기, 단국대학교 전기공학과
저자: 조동일, 서울대학교 전기공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로