기사
직교배열표를 쓴 remote-PECVD 산화막형성의 공정최적화 및 특성 = Optimization of remote plasma enhanced chemical vapor deposition oxide deposition process using orthogonal array table and properties
표제/저자사항 직교배열표를 쓴 remote-PECVD 산화막형성의 공정최적화 및 특성 = Optimization of remote plasma enhanced chemical vapor deposition oxide deposition process using orthogonal array table and properties / 김광호, 김제덕, 유병곤, 구진근, 김경수
형태사항 p. 171-175: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電氣電子材料學會誌. 韓國電氣電子材料學會. 8券 2號(1995년 3월), p. 171-175 8:2<171 상세보기 ISSN 1225-6684
저자: 김광호, 청주대학교 반도체공학과
저자: 김제덕, 청주대학교 반도체공학과
저자: 유병곤, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 구진근, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 김경수, 한국전자통신연구소 반도체연구단
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로