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Al(Si, Cu)합금막의 플라즈마 식각후 표면 특성 = Surface properties of Al(Si, Cu) alloy film after plasma etching
표제/저자사항 Al(Si, Cu)합금막의 플라즈마 식각후 표면 특성 = Surface properties of Al(Si, Cu) alloy film after plasma etching / 구진근, 김창일, 박형호권광호, 현영철, 서경수, 남기수
형태사항 p. 291-297: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電氣電子材料學會誌. 韓國電氣電子材料學會. 9卷 3號(1996년 3월), p. 291-297 9:3<291 상세보기 ISSN 1225-6684
저자: 구진근, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 김창일, 안양대학교 전기공학과
저자: 박형호, 연세대학교 세라믹공학과
저자: 권광호, 한서대학교 전자공학과
저자: 현영철, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 서경수, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 남기수, 한국전자통신연구소 반도체연구단
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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