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감광제 건식제거공정의 최적화 = Optimization of down stream plasma ashing process
표제/저자사항 감광제 건식제거공정의 최적화 = Optimization of down stream plasma ashing process / 박세근, 이종근
형태사항 p. 918-924: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電氣電子材料學會誌. 韓國電氣電子材料學會. 9卷 9號(1996년 11월), p. 918-924 9:9<918 상세보기 ISSN 1225-6684
저자: 박세근, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소 전자재료공학과
저자: 이종근, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소 전자재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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