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고주파 때려내기법에 의한 질화알루미늄 박막의 제작과 특성 = Preparation and characterization of ain thin films by rf sputtering method
표제/저자사항 고주파 때려내기법에 의한 질화알루미늄 박막의 제작과 특성 = Preparation and characterization of ain thin films by rf sputtering method / 정성훈, 김영호, 문동찬, 김선태
형태사항 p. 706-712: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 電氣電子材料學會誌. 韓國電氣電子材料學會. 10卷 7號(1997년 8월), p. 706-712 10:7<706 상세보기 ISSN 1225-6684
저자: 정성훈, 광운대학교 공대 전자재료공학과
저자: 김영호, 광운대학교 공대 전자재료공학과
저자: 문동찬, 광운대학교 공대 전자재료공학과
저자: 김선태, 대전산업대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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