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Etching reaction of UO₂ with CF₄ / O₂ mixture gas plasma
표제/저자사항 Etching reaction of UO₂ with CF₄ / O₂ mixture gas plasma / Yongsoo Kim, Jinyoung Min, Kikwang Bae, Myungseung Yang
형태사항 p. 133-138: 삽도; 26 cm
주기사항 수록자료: 원자력학회지. 한국원자력학회. 제31권 2호(1999년 4월), p. 133-138 31:4<133 상세보기 ISSN 0372-7327
저자: Yongsoo Kim, Hanyang University
저자: Jinyoung Min, Hanyang University
저자: Kikwang Bae, Atomic Energy Research Institute
저자: Myungseung Yang, Atomic Energy Research Institute
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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