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실리콘 기판위에 분자선속법으로 생장한 GaAs 에피층 = Molecular beam epitaxial growth of GaAs on silicon substrate
표제/저자사항 실리콘 기판위에 분자선속법으로 생장한 GaAs 에피층 = Molecular beam epitaxial growth of GaAs on silicon substrate / 이동선, 우덕하, 김대욱, 우종천
형태사항 p. 82-91; 29 cm
주기사항 수록자료: Journal of the Korean crystal growth and crystal technology. 韓國結晶成長學會. 1권 1호(1991년 6월), p. 82-91 1:1<82 상세보기 ISSN 1225-1429
저자: 이동선, 서울대학교 물리학과
저자: 우덕하, 서울대학교 물리학과
저자: 김대욱, 서울대학교 물리학과
저자: 우종천, 서울대학교 물리학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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