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실리콘 기판 위에 화학적 방법으로 증착된 구리 박막의 특성 연구 = (A)study on copper thin film growth by chemical vapor deposition onto silicon substrates
표제/저자사항 실리콘 기판 위에 화학적 방법으로 증착된 구리 박막의 특성 연구 = (A)study on copper thin film growth by chemical vapor deposition onto silicon substrates / 조남인, 박동일, 김창교, 김용석
형태사항 p. 318-326; 29 cm
주기사항 수록자료: Journal of the Korean crystal growth and crystal technology. 韓國結晶成長學會. 6권 3호(1996년 8월), p. 318-326 6:3<318 상세보기 ISSN 1225-1429
저자: 조남인, 선문대학교 전자공학과
저자: 박동일, 선문대학교 전자공학과
저자: 김창교, 순천향대학교 전자공학과
저자: 김용석, 선문대학교 물리학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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