기사
플라즈마 화학기상증착법으로 성장시킨 수소화 비정질 규소박막의 결정화 = Crystallization of a-Si : H thin films deposited by RF plasma CVD method
표제/저자사항 플라즈마 화학기상증착법으로 성장시킨 수소화 비정질 규소박막의 결정화 = Crystallization of a-Si : H thin films deposited by RF plasma CVD method / 김용탁, 장건익, 홍병유, 서수정, 윤대호
형태사항 p. 56-59; 29 cm
주기사항 수록자료: Journal of the Korean crystal growth and crystal technology. 韓國結晶成長學會. 11권 2호(2001년 4월), p. 56-59 11:2<56 상세보기 ISSN 1225-1429
저자: 김용탁, 균관대학교 금속·재료 공학부, Corresponding author E-MAIL: ytkim@mail.skku.ac.kr
저자: 장건익, 충북대학교 금속·재료 공학부
저자: 홍병유, 성균관대학교 전기전자컴퓨터 공학부
저자: 서수정, 성균관대학교 금속·재료 공학부
저자: 윤대호, 성균관대학교 금속·재료 공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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