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Si(001) 기판 위에 HWE 방법으로 성장한 GaN 박막 성장 = Growth of GaN epilayer on the Si(001) substrate by hot wall epitaxy
표제/저자사항 Si(001) 기판 위에 HWE 방법으로 성장한 GaN 박막 성장 = Growth of GaN epilayer on the Si(001) substrate by hot wall epitaxy / 이훈, 윤창주, 양전욱, 신영진
형태사항 p. 273-279; 29 cm
주기사항 수록자료: Journal of the Korean crystal growth and crystal technology. 韓國結晶成長學會. 9권 3호(1999년 6월), p. 273-279 9:3<273 상세보기 ISSN 1225-1429
저자: 이훈, 전북대학교 반도체 물성 연구소
저자: 윤창주, 전북대학교 반도체 물성 연구소
저자: 양전욱, 전북대학교 반도체 물성 연구소
저자: 신영진, 전북대학교 반도체 물성 연구소
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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