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DC manetron sputtering법으로 제조된 Ti-Si-N 코팅막의 내산화성에 관한 연구 = High-temperature oxidation resistance of Ti-Si-N coating layers prepared by DC magnetron sputtering method
표제/저자사항 DC manetron sputtering법으로 제조된 Ti-Si-N 코팅막의 내산화성에 관한 연구 = High-temperature oxidation resistance of Ti-Si-N coating layers prepared by DC magnetron sputtering method / 최준보, 류정민, 조건, 김광호, 이미혜
형태사항 p. 415-421; 26 cm
주기사항 수록자료: 한국표면공학회지. 한국표면공학회. 35권 6호(2002년 12월), p. 415-421 35:6<415 상세보기 ISSN 1225-8024
저자: 최준보, 부산대학교 재료공학부
저자: 류정민, 부산대학교 재료공학부
저자: 조건, 부산대학교 재료공학부
저자: 김광호, 부산대학교 재료공학부
저자: 이미혜, 기술신용보증기금 기술평가센터
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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