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무전해도금된 Cu 박막의 IC 배선재료용으로서 신뢰성 평가 = Investigation of reliability on the electroless-plated Cu film for the IC interconnect application
표제/저자사항 무전해도금된 Cu 박막의 IC 배선재료용으로서 신뢰성 평가 = Investigation of reliability on the electroless-plated Cu film for the IC interconnect application / 이은주, 김정식
형태사항 p. 11-17; 27 cm
주기사항 수록자료: 産業技術硏究所論文輯-서울市立大學校 産業技術硏究所. 서울市立大學校 産業技術硏究所. 제6집 2호(1998년 12월), p. 11-17 6:2<11 상세보기 ISSN 1229-1773
저자: 이은주, 서울시립대학교 재료공학과
저자: 김정식, 서울시립대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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