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Si 기판의 소성변형 효과 보정에 의해 개선된 곡률측정법을 이용한 CVD 다이아몬드 박막의 잔류응력 평가 = Residual stress evaluation through improved curvature method by considering plastic deformation effect of substrate in CVD diamond film
표제/저자사항 Si 기판의 소성변형 효과 보정에 의해 개선된 곡률측정법을 이용한 CVD 다이아몬드 박막의 잔류응력 평가 = Residual stress evaluation through improved curvature method by considering plastic deformation effect of substrate in CVD diamond film / 鄭增鉉, 金龍協, 白泳俊, 權東一
형태사항 p. 1675-1683; 30 cm
주기사항 수록자료: 대한금속ㆍ재료학회지. 대한금속.재료학회. 38권 12호(2000년 12월), p. 1675-1683 38:12<1675 상세보기 ISSN 0253-3847
저자: 정증현, 서울대학교 재료공학부
저자: 김용협, 서울대학교 기계항공공학부
저자: 백영준, 한국과학기술연구원 박막기술연구센터
저자: 권동일, 서울대학교 재료공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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