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기판 열처리에 따른 (Pb, La)TiO₃ 박막의 유전 특성 = Dielectric properties of (Pb, La)TiO₃thin films by substrate annealing
표제/저자사항 기판 열처리에 따른 (Pb, La)TiO₃ 박막의 유전 특성 = Dielectric properties of (Pb, La)TiO₃thin films by substrate annealing / 박정흠, 마석범, 박창엽
형태사항 p. 33-37; 26 cm
주기사항 수록자료: 논문집-연세대학교 산업기술연구소. 연세대학교 산업기술연구소. 33집 1권(2001년 6월), p. 33-37 33:1<33 상세보기
저자: 박정흠, 김포대학교 전자계열 전임교수
저자: 마석범, 용인송담대학 전기설비과 조교수
저자: 박창엽, 산업기술연구소 자문교수
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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