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Plasma 화학증착에서 AIN 박막성장에 미치는 공정변수 영향 = Effect of process variables on AIN film deposition in PECVD process
표제/저자사항 Plasma 화학증착에서 AIN 박막성장에 미치는 공정변수 영향 = Effect of process variables on AIN film deposition in PECVD process / 朴賢哲, 金益鉉金善孝
형태사항 p. 350-355; 30 cm
주기사항 수록자료: 대한금속학회지. 大韓金屬學會. 제33권 3호(1995년 3월), p. 350-355 33:3<350 상세보기 ISSN 0253-3847
저자: 박현철, 포항공과대학교 재료 금속공학과
저자: 김익현, 포항공과대학교 재료 금속공학과
저자: 김선효, 포항공과대학교 재료 금속공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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