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12″웨이퍼 spin etcher용 실시간 박막두께 측정장치의 개발 = Development of real time thin film meaurement system of 12″wafer for spin etcher
표제/저자사항 12″웨이퍼 spin etcher용 실시간 박막두께 측정장치의 개발 = Development of real time thin film meaurement system of 12″wafer for spin etcher / 서학석, 김노유, 조중근
형태사항 p. 143-150; 30 cm
주기사항 수록자료: (학술대회)논문집-한국비파괴검사학회. 한국비파괴검사학회. 2002년 추계(2002년 11월), p. 143-150 2002:2<143 상세보기
저자: 서학석, 한국기술교육대학교 대학원
저자: 김노유, 한국기술교육대학교 메카트로닉스 공학부
저자: 조중근, 한국DNS
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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