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고집적소자에 응용되는 텅스텐-보론-질소 화합물 박막의 열적인 안정성 = Thermally stable diffusion barrier of W-B-N thin films for high memory devices
표제/저자사항
고집적소자에 응용되는 텅스텐-보론-질소 화합물 박막의 열적인 안정성 = Thermally stable diffusion barrier of W-B-N thin films for high memory devices / 이창우, 고석중, Q. Chen
형태사항
p. 61-68; 26 cm
주기사항
수록자료: (基礎科學硏究所)論文集-國民大學校. 國民大學校出版部. 19輯 1卷(2000년), p. 61-68 19:1<61 상세보기 ISSN 1226-0002
저자: 이창우, 국민대학교 자연과학대학 전자물리학전공 부교수 E-MAIL: cwlee@phys.kookmin.ac.kr
저자: Q. Chen, School of Chemistry, University of St. Andrews, North Haugh E-MAIL: qc@st-andrews.ac.uk
저자: 이창우, 국민대학교 자연과학대학 전자물리학전공 부교수 E-MAIL: cwlee@phys.kookmin.ac.kr
저자: Q. Chen, School of Chemistry, University of St. Andrews, North Haugh E-MAIL: qc@st-andrews.ac.uk
출처
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MARC 보기
001KMO201509136
00520150303111639
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008150107s2001 gak 100 kor
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
