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다층배선을 위한 구리박막 형성기술 = Deposition technology of copper thin films for multi-level metallizations
표제/저자사항 다층배선을 위한 구리박막 형성기술 = Deposition technology of copper thin films for multi-level metallizations / 조남인
형태사항 p. 1-6; 26 cm
주기사항 수록자료: 마이크로전자 및 패키징학회지. 한국마이크로전자 및 패키징학회. 9권 3호(2002년 9월), p. 1-6 9:3<1 상세보기 ISSN 1226-9360
저자: 조남인, 선문대학교 전자정보통신공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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